![多入射角激光椭偏仪](http://www.bjnbet.com/uploads/111104/1-111104162K0L1.jpg)
多入射角激光椭偏仪
高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪,采用多项专利技术,仪器硬件和软件具有多项定制功能设计,适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。 产品特点: 1.高精度、高稳定性 2.一体化集成设计 3.测量简单 4.快速、高精度样品方位对准 5.多角度测量 6.实时测量 7.丰富的材料库及物理模型 8.强大的数据分析和管理功能 应用领域: 可应用于纳米薄膜的几乎所有领域,如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质及金属处理等。可对纳米层构样品的薄膜厚度和折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量,尤其适用于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控,可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构模系,以及块状材料(基底)。
技术指标:
激光波长 |
632.8nm(He-Ne laser) |
膜层厚度精度 |
0.01nm(对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
折射率精度 |
1x10-4 (对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
光学结构 |
PSCA |
激光光束直径 |
<1mm |
入射角度 |
40°-90°可选,步进5° |
样品方位调整 |
三维平移调节;±6.5mm(X-Y-Z三轴) 二维俯仰调节:±4° 光学自准直系统对准 |
样品台尺寸 |
Φ 170mm |
单次测量时间 |
0.2s |
推荐测量范围 |
0-6000nm |
最大外形尺寸(长x宽x高) |
887x332x552mm(入射角为90°时 |
仪器重量(净重) |
25kg |